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12-23
雷博科儀熱烈祝賀武漢大學柯維俊&方國家教授團隊使用我司多款薄膜制備產品在鈣鈦礦太陽能電池領域取得重要突破科研同款在本次研究中，武漢大學柯維俊&方國家教授團隊使用了我司生產的AC200-SE勻膠機.pdf、MS450鍍膜機.pdf、PF200-H鈣鈦礦專用涂膜機.pdf、PT13M-SE等離子清洗機.pdf。研究背景全鈣鈦礦疊層太陽能電池（TSCs）雖具備優秀性能，但小面積與大面積（1cm2）器件間的效率差距嚴重阻礙其商業化進程。研究亮點晶體修飾劑創新：吡拉西坦通過雙重作用機制...
12-23
傳統設備在高速旋轉涂布時，容易出現膜厚不均、熱烘溫度波動大等問題。雷博科儀勻膠機腔體采用特殊設計，在納米壓印工藝上能夠保持優異的均勻性：A.勻膠均勻性：8寸晶圓，BKM數據可達±1.1%。4寸晶圓BKM數據：片內±0.49%，片間±0.55%。6寸晶圓BKM數據：片內±0.76%，片間±0.91%。8寸晶圓BKM數據：片內±0.92%，片間±1.10%。B.面板均勻性：8/12寸...
12-23
中科院化學所X雷博科儀喜相較于旋涂法，刮涂法制備的鈣鈦礦薄膜通常形貌較差，影響太陽能模塊（PSM）的效率和穩定性。為此，中科院化學所團隊在鈣鈦礦前驅體中引入聚合物添加劑，定制橢圓膠體結構（在實驗中使用了雷博科儀的PF200原位刮涂設備），成果發表于《AdvancedMaterials》。01supportinginformationPF200(原位刮涂)設備：一種可以用于同步輻射原位觀測平臺的微型涂膜器，推桿可吸附硅片或其他形式刀頭進行涂膜，涂膜高度可調。02研究內容a)鈣鈦...
12-22
等離子清洗機的清潔效果檢測，核心是驗證表面污染物去除程度以及表面活性提升效果，常用方法可分為物理檢測法和化學檢測法兩類，操作簡單且實用性強，具體步驟如下：一、物理檢測法(直觀判斷，快速上手)1.接觸角測量法這是檢測表面親水性/疏水性變化的核心方法，等離子清洗會去除表面油污、增加活性基團，讓接觸角顯著降低。準備工具：接觸角測量儀、去離子水(或指定測試液)。操作步驟：清洗前：取待測樣品，滴1~2μL去離子水在表面，用儀器測量接觸角并記錄數值。清洗后：用同樣方法在樣品同一區域(或相...
12-18
一、概述與行業背景1.1磁控濺射的地位磁控濺射(MagnetronSputtering)是物理氣相沉積（PVD）技術中常用且高效的薄膜制備方法之一。它利用磁場約束等離子體中的電子，提高氣體離化率，從而在較低氣壓和基板溫度下實現高速、均勻的薄膜沉積。隨著半導體、顯示面板、新能源、表面工程等領域對薄膜性能(厚度均勻性、成分可控性、附著力、致密性)的要求不斷提升，磁控濺射設備已成為制造核心裝備。1.2行業發展趨勢半導體先進制程：金屬互連層、阻擋層、介質層等對薄膜均勻性和純度要求高。...
12-8
磁控濺射鍍膜設備是一種廣泛應用于電子、光電、材料科學等領域的高科技設備，常用于薄膜的沉積。磁控濺射技術具有良好的膜層質量、均勻性和附著力，因此被廣泛用于半導體、顯示器、太陽能電池等產品的生產中。然而，隨著使用頻率的增加和老化，也會出現各種故障，影響生產效率和產品質量。因此，對磁控濺射鍍膜設備故障診斷與維護是確保設備正常運行和延長使用壽命的關鍵。一、故障診斷1、故障現象排查：設備出現故障時，首先要觀察設備的表現，例如是否有報警信號，是否有異常聲音或氣味等。通過初步的排查，確定故...
12-2
摘要電解雙噴減薄儀通過電化學方法從兩側同時減薄金屬樣品，直至中心穿孔，獲得適用于TEM觀察的薄區。其過程敏感且易受多種因素干擾，導致樣品制備失敗。本文旨在提供一套系統性的方法，首先深入剖析電解液選擇、電流參數、噴射條件、溫度與環境等核心工作條件的優化策略，建立參數與樣品質量之間的關聯。隨后，文章構建了一個從現象到根源的邏輯診斷樹，對常見的各類故障(如無法穿孔、孔洞形狀不規則、污染、過薄等)進行逐一拆解與分析。掌握本文內容，將極大提升操作者解決復雜問題的能力，實現對TEM樣品制...
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